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众所周知,反渗透(RO)在压力驱动下,借助半透膜的选择截流,溶液中的溶质与溶剂分离。无论是低压复合膜还是超低压复合膜,膜的质量都是用水的通过速率和脱盐率来衡量的,而水的通过速率,即水的通量,与驱动压力成正比。
如果能达到一定的水通量,驱动压力越低,不仅会降低能耗,还会降低泵、压力容器、管道等设备的投入。
本文介绍了ESPA超低压膜的主要特点。同时,还列出了超低压ESPA膜与低压CPA2或NTR-759膜与醋酸纤维CA膜在操作压力、通水量、脱盐率等方面的比较,研究了各种方法和onclick=g(反渗透膜);“>反渗透膜比较了TOC和细菌中毒素的去除效果,成功应用于空间材料制备水、高纯化学试剂生产水、机车电池水和建筑材料板水,取得了良好的效果。
一、TOC、细菌、细菌内毒素和颗粒对大型集成电路的影响
随着电子工业的发展,对高纯水的要求越来越高。例如,[6]16KDRAM允许水中TOC(总有机碳)为500ppb、金属离子为1ppb、≥0.2μm颗粒为100个/毫升;制作16M位DRAM时,TOCC需要TOCM<5ppb、金属离子<0.2ppb、水中≥0.1μm颗粒数为0.6个/升。
1.1TOC,细菌和细菌内毒素对大型集成电路的影响。
1.2DRAM对颗粒和TOC的要求
由于细菌和细菌内毒素会产生颗粒污染和TOC污染,图1、图2显示了颗粒污染和TOC污染对大型集成电路的影响,因此在兆位电路水中对TOC的影响、严格控制细菌和细菌内毒素的含量。热原存在于天然水、自来水等各种水源中。
目前,热原是指多糖物质[7],即细菌内毒素。细菌内毒素是革兰氏阴性菌细胞壁外壁层的独特结构——脂多糖。
因此,哪里有细菌,哪里就有细菌内毒素。其结构为单个粒子,其分子量在10000~200000之间,体积为1~5000μm,细菌内毒素能在水中形成较大的成团密集体,造成颗粒污染。细菌内毒素含有75%的磷多糖、12~15%的磷脂和6~7%的有机磷酸盐,造成TOC污染。由于磷含量高,硅中含有N型杂质,贡献导电电子,形成无法控制的污染,严重影响设备的性能和成品率[8]。
二、超低压卷复合膜的主要特点
2.1与CA膜和低压复合膜相比,ESPA、ES10、ES20膜达到相同产水量时所需的操作压力大大降低,换句话说,在相同的操作压力下,其产水量高于其他膜。
从图1可以看出,ESPA在一定压力下,ES20膜的产水量是注册会计师2或NTR-759HR的两倍,而注册会计师2或NTR-759HR和BW30膜的产水量是注册会计师膜的五倍。换句话说,如果产水量相同,操作压力要低得多。
2.2低压和超低压膜,如CPA2,NTR-759膜和ESPA膜,去除水中二氧化硅的能力,均在98%以上,标准条件下二氧化硅的去除率。